等离子清洗设备的原理是在真空状态下,压力越来越小,分子间间距越来越大,分子间力越来越小,利用射频电源产生的高压交变电场将氧、、氢等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的离子,然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质,然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去,从而达到表面清洁活化的目的。是清洗方法中为的剥离式清洗,其大优势在于清洗后无废液,大特点是对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能---地处理,实验亲水处理,可实现整体和局部以及复杂结构的清洗
硅是地壳中含量仅次于氢和氧的元素,它通常以化合物的形态存在于大自然中。现代,亲水处理,以硅为主的半导体材料已经是微电子信息产业和太阳能光伏产业主要的基础功能材料,在---和工业中占有很重要的---。硅片作为芯片的片基,在进行电路集成之前要进行一系列的准备工作。硅片的亲疏水处理就属于前期准备范畴。表面的浸润性与许多物理化学过程,基片亲水处理,如吸附、润滑、粘合、分散和摩擦等密切相关。
现在大型火力发电厂均采用疏水逐级自流的方式,是利用各加热器间的压力差,让疏水自流入相邻的压力较低的加热器空间,后一台加热器的疏水逐级自流入排汽装置。
这种疏水方式简单---,但是热经济性差。这是由于压力较高的加热器的疏水流入压力较低的加热器蒸汽空间时要放出热量,玻璃亲水处理,从而排挤了一部分较低压力的回热抽汽量。
在保持汽轮机输出功率一定的条件下,势必造成抽汽做功减少,凝气循环的发电量增加,这样就增加了冷源热损失,尤其是疏水排入排汽装置时,将直接导致冷源热损失的增加。
在疏水逐级自流系统中,装设疏水冷却器可提高机组的热经济性。在疏水自流入下一级加热器之前,用一部分主凝结水在疏水冷却器,使进入下一级的疏水放热量减少,以减少由于排挤抽汽引起的冷源热损失。
还可以防止疏水在疏水管道中汽化而发生汽阻,影响正常疏水。疏水冷却器也可以放在加热器内部,成为疏水冷却段。在现代大型机组上,高低加中均采用疏水冷却段,以提高机组的热经济性。
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