当硅片经清洗液处理后表面不沾水分子时称为疏水处理，反之表面吸附水膜时为亲水处理。纯净的硅片表面是疏水性的。从能量观点看，疏水性表面属低能表面，这时硅片表面张力r（sg）小于水分子表面张力r（sl）。亲水性表面则属高能表面，这时的硅表面张力r（sg）大于水分子表面张力r（sl）。由此可知，硅表面成为亲水性的基本条件为a=r（sg）- r（sl）＞0
氧等离子体处理后的pdms，其表面引入了亲水性质的-oh基团，疏水处理，并代替了-ch基团，从而使pdms表面表现出极强的亲水性质。同样，由于硅基底通过处理，疏水处理的目的，表面含有大量si-o键，亲疏水处理，在氧等离子体处理的过程中，si-o键被打断，防水疏水处理，从而在表面形成大量的si悬挂键，通过吸收空气中-oh，形成了si-oh键。将处理后的pdms与硅表---贴合，两表面的si-oh之间发生如下反应:2si-ohsi-o-si+2h2o。在硅基底与pdms之间形成了牢固的si-o键结合，从而完成了二者间不可逆键合。
亲水膜和疏水膜各有针对性的应用。亲水膜用于污水处理，疏水膜用于气水分离。
疏水膜用于空气过滤、膜蒸馏等膜工艺。疏水性越好，对气体的渗透性越好，生产效率和产值比就越高。 勤达过滤的疏水膜包括疏水 ptfe 膜过滤器、pvdf 膜过滤器、gf 膜过滤器、pp 膜过滤器。您可以为您的应用选择正确的过滤器。
总而言之，膜经过不同的处理，疏水或亲水化，以适应不同的应用，达到佳的产率！
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