等离子清洗设备的原理是在真空状态下，压力越来越小，分子间间距越来越大，分子间力越来越小，利用射频电源产生的高压交变电场将氧、、氢等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的离子，实验亲水处理，然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁活化的目的。是清洗方法中为的剥离式清洗，其大优势在于清洗后无废液，大特点是对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能---地处理，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗
在化学里，疏水性指的是一个分子（疏水物）与水互相排斥的物理性质。举例来说，疏水性分子包含有烷烃、油、脂肪和多数含有油脂的物质。
疏水性通常也可以称为亲脂性，玻璃表面亲水处理，但这两个词并不全然是同义的。即使大多数的疏水物通常也是亲脂性的，但还是有例外，如硅橡胶和碳---合物（fluorocarbon）。
性质理论根据热力学的理论，物质会寻求存在于能量的状态，而氢键便是个可以减少化学能的办法。水是极性物质，并因此可以在内部形成氢键，这使得它有许多独别的性质。但是，因为疏水物不是电子极化性的，它们无法形成氢键，硅胶亲水处理，所以水会对疏水物产生排斥，山东亲水处理，而使水本身可以互相形成氢键。
这即是导致疏水作用（这名称并不正确，因为能量作用是来自亲水性的分子）的疏水效应，因此两个不相溶的相态（亲水性对疏水性）将会变化成使其界面的面积时的状态。此一效应可以在相分离的现象中被观察到。
亲疏水处理的微观机理当硅片经清洗液处理后表面不沾水分子时称为疏水处理，反之表面吸附水膜时为亲水处理。纯净的硅片表面是疏水性的。从能量观点看，疏水性表面属低能表面，这时硅片表面张力小于水分子表面张力。亲水性表面则属高能表这时的硅表面张力大于水分子表面张力即硅片表面必须由低能转化为高能表面。从(2)式可以看出:完成上述转化的条件为或者使上升，或者下降。由于清洗液大多为无机碱、酸的水溶液，知这时几乎不变。因此，的方法是改变，使之增加。
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