1.磷酸基是亲水性的基团，常见的亲水性基团还有磺酸基，羧基，---等。
因为这些基团会增加物质的溶解度。比如：当给---环引入一个磺酸基形成---磺酸，则使得---不溶于水的性---为溶于水的---磺酸。所以说磺酸基是亲水基，同理磷酸基也是亲水基。
2.相反，所有的烃基都是疏水基团，疏水处理仪器，也就是亲脂（油）基团，而且随着烃的含碳数越大（烃链越长）疏水性越强，亲脂性越强，在水中溶解度越小。
例如溶于水，疏水处理有哪些方法，这书因为中虽然含有疏水基，但是含碳量少且由于分子含有亲水基羧基，所以疏水基的比例不大，所以整个分子溶于水。但是硬脂酸（十八酸）则不溶于水，这是因为十八酸除了亲水的羧基外，含有十七个碳原子的很长的链的烷烃基团，导致疏水基的空间比例远远大于亲水基，所以整个硬脂酸分子不溶于水。
磷脂的另一头就是含有长链烷烃的疏水性基团。
利用氧等离子体表面处理，使pdms与带有钝化层的硅片在室温常压下可以成功键合。在利用氧等离子体改性处理实现pdms与其它基片键合的技术中，-般认为，在进行氧等离子体表面改性后，应立即将pdms基片与盖片贴合，否则pdms表面将很快恢复疏水性，从而导致键合失效，疏水处理，因此可操作工艺时间较短，一般为1 ~ 10min。而通常在需键合的pdms基片和硅基片上都会带有相应的微细结构，键合前需用一定的时间进行结构图形的对准，因此，如何使pdms活性表面的持续时间得以延长，成为---键合的关键。
即硅片表面必须由低能转化为高能表面。从a=r（sg）- r（sl）＞0式可以看出:完成上述转化的条件为或者使r（sg）.上升，或者r（sl）下降。由于清洗液大多为无机碱、酸的水溶液，知这时r（sl）.几乎不变。因此，的方法是改变r（sg）， 使之增加。由于结构完整的纯净硅表面r（sg）是固定的，要改变其r（sg），疏水处理方法，只能改变其表面结构。实际上，硅片经过清洗液洗后，表面si大部分以o键为终端结构，即表面非定形siox结构，利用其高r（sg）值达到硅表面吸附水分子的效果。亲水处理后，硅表面结构
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