硅是地壳中含量仅次于氢和氧的元素，面料疏水处理，它通常以化合物的形态存在于大自然中。现代，以硅为主的半导体材料已经是微电子信息产业和太阳能光伏产业主要的基础功能材料，在---和工业中占有很重要的---。硅片作为芯片的片基，在进行电路集成之前要进行一系列的准备工作。硅片的亲疏水处理就属于前期准备范畴。表面的浸润性与许多物理化学过程，疏水处理有哪些方法，如吸附、润滑、粘合、分散和摩擦等密切相关。
氧等离子体处理后的pdms，其表面引入了亲水性质的-oh基团，并代替了-ch基团，从而使pdms表面表现出极强的亲水性质。同样，由于硅基底通过处理，表面含有大量si-o键，在氧等离子体处理的过程中，si-o键被打断，防水疏水处理，从而在表面形成大量的si悬挂键，通过吸收空气中-oh，形成了si-oh键。将处理后的pdms与硅表---贴合，两表面的si-oh之间发生如下反应:2si-ohsi-o-si+2h2o。在硅基底与pdms之间形成了牢固的si-o键结合，从而完成了二者间不可逆键合。
等离子清洗设备的原理是在真空状态下，压力越来越小，分子间间距越来越大，分子间力越来越小，利用射频电源产生的高压交变电场将氧、、氢等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的离子，然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去，疏水处理，从而达到表面清洁活化的目的。是清洗方法中为的剥离式清洗，其大优势在于清洗后无废液，大特点是对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能---地处理，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗
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