当硅片经清洗液处理后表面不沾水分子时称为疏水处理,疏水处理的目的,反之表面吸附水膜时为亲水处理。纯净的硅片表面是疏水性的。从能量观点看,疏水处理剂,疏水性表面属低能表面,面料疏水处理,这时硅片表面张力r(sg)小于水分子表面张力r(sl)。亲水性表面则属高能表面,这时的硅表面张力r(sg)大于水分子表面张力r(sl)。由此可知,硅表面成为亲水性的基本条件为a=r(sg)- r(sl)>0
亲疏水处理改变材料表面接触角度,实现不同应用需求。表面亲水处理常被用在采血、样本自驱动、样本观测等液体流动类产品,使用时可起到辅助液体均匀流动的作用,从而提高产品检测准确率。疏水表面则多用于加样针、微流道芯片、微坑阵列产品等等。
1.接触角小可达8° ,大可达150°
2.聚合物、玻璃、金属、硅等多种基材均可处理
3.多种亲、疏水修饰涂层,满足不同应用场景中的表面处理需求
硅表面疏水性处理微观机理与亲水性处理机理相似,硅表面成为疏性的基本条件为b=a=r(sl)- r(sg)>0
硅片表面必须由高能转化为低能表面。从上式可以看出:完成上述转化的条件为或者使 r(sg)下降,疏水处理,或者r(sl)上升。方法还是改变其表面结构,使 r(sg)减小。硅片经过特殊清洗液洗时,表面形成的自然氧化膜腐蚀掉,si几乎不被腐蚀。硅片外层的si儿乎以h键为终端结构,表面呈疏水性。
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