氧等离子体处理后的pdms,其表面引入了亲水性质的-oh基团,并代替了-ch基团,从而使pdms表面表现出极强的亲水性质。同样,如何疏水处理,由于硅基底通过处理,表面含有大量si-o键,在氧等离子体处理的过程中,si-o键被打断,从而在表面形成大量的si悬挂键,通过吸收空气中-oh,面料疏水处理,形成了si-oh键。将处理后的pdms与硅表---贴合,两表面的si-oh之间发生如下反应:2si-ohsi-o-si+2h2o。在硅基底与pdms之间形成了牢固的si-o键结合,疏水处理,从而完成了二者间不可逆键合。
亲疏水处理改变材料表面接触角度,疏水处理有哪些方法,实现不同应用需求。表面亲水处理常被用在采血、样本自驱动、样本观测等液体流动类产品,使用时可起到辅助液体均匀流动的作用,从而提高产品检测准确率。疏水表面则多用于加样针、微流道芯片、微坑阵列产品等等。
1.接触角小可达8° ,大可达150°
2.聚合物、玻璃、金属、硅等多种基材均可处理
3.多种亲、疏水修饰涂层,满足不同应用场景中的表面处理需求
硅表面疏水性处理微观机理与亲水性处理机理相似,硅表面成为疏性的基本条件为b=a=r(sl)- r(sg)>0
硅片表面必须由高能转化为低能表面。从上式可以看出:完成上述转化的条件为或者使 r(sg)下降,或者r(sl)上升。方法还是改变其表面结构,使 r(sg)减小。硅片经过特殊清洗液洗时,表面形成的自然氧化膜腐蚀掉,si几乎不被腐蚀。硅片外层的si儿乎以h键为终端结构,表面呈疏水性。
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