氧等离子体处理后的pdms,其表面引入了亲水性质的-oh基团,并代替了-ch基团,从而使pdms表面表现出极强的亲水性质。同样,由于硅基底通过处理,表面含有大量si-o键,在氧等离子体处理的过程中,si-o键被打断,从而在表面形成大量的si悬挂键,疏水处理的目的,通过吸收空气中-oh,形成了si-oh键。将处理后的pdms与硅表---贴合,两表面的si-oh之间发生如下反应:2si-ohsi-o-si+2h2o。在硅基底与pdms之间形成了牢固的si-o键结合,从而完成了二者间不可逆键合。
即硅片表面必须由低能转化为高能表面。从a=r(sg)- r(sl)>0式可以看出:完成上述转化的条件为或者使r(sg).上升,疏水处理剂,或者r(sl)下降。由于清洗液大多为无机碱、酸的水溶液,知这时r(sl).几乎不变。因此,的方法是改变r(sg), 使之增加。由于结构完整的纯净硅表面r(sg)是固定的,要改变其r(sg),只能改变其表面结构。实际上,硅片经过清洗液洗后,表面si大部分以o键为终端结构,即表面非定形siox结构,疏水处理,利用其高r(sg)值达到硅表面吸附水分子的效果。亲水处理后,玻璃疏水处理,硅表面结构
为了提高材料表面的亲水性,应用等离子体技术对材料进行表面改性而提高其润湿性;等离子表面清洗技术作为一种新型的材料表面改性方法,低能耗、污染小、处理时间短、效果明显的特点引起了人们的关注。改性后疏水性材料表面的润湿性得到了明显---,等离子清洗机是众多的改性方法中,近年来发展较快的方法,与其他方法相比有很多优点。
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