氧等离子体处理后的pdms，玻片疏水处理，其表面引入了亲水性质的-oh基团，并代替了-ch基团，防水疏水处理，从而使pdms表面表现出极强的亲水性质。同样，由于硅基底通过处理，疏水处理，表面含有大量si-o键，在氧等离子体处理的过程中，疏水处理 图书，si-o键被打断，从而在表面形成大量的si悬挂键，通过吸收空气中-oh，形成了si-oh键。将处理后的pdms与硅表---贴合，两表面的si-oh之间发生如下反应:2si-ohsi-o-si+2h2o。在硅基底与pdms之间形成了牢固的si-o键结合，从而完成了二者间不可逆键合。
亲疏水处理的微观机理当硅片经清洗液处理后表面不沾水分子时称为疏水处理，反之表面吸附水膜时为亲水处理。纯净的硅片表面是疏水性的。从能量观点看，疏水性表面属低能表面，这时硅片表面张力小于水分子表面张力。亲水性表面则属高能表这时的硅表面张力大于水分子表面张力即硅片表面必须由低能转化为高能表面。从(2)式可以看出:完成上述转化的条件为或者使上升，或者下降。由于清洗液大多为无机碱、酸的水溶液，知这时几乎不变。因此，的方法是改变，使之增加。
亲水性（hydrophilic），对水具有亲合力的性能。如·：金属版材如铬、铝、锌及其生成的氢氧化物以及具有毛细现象的物质都有---的亲水效果。在有机物中表现为---和羧基等的亲水性，即它们使该有机物易溶于水。 疏水性（hydrophobic），对水具有排斥能力的性能。如：印版图文的亲油成分和印刷油墨都具有---的疏水性。在有机物中表现为和---环等的疏水性，即它们使该有机物难溶于水。
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