等离子清洗设备的原理是在真空状态下,压力越来越小,分子间间距越来越大,分子间力越来越小,利用射频电源产生的高压交变电场将氧、、氢等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的离子,然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质,玻璃亲水处理,然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去,从而达到表面清洁活化的目的。是清洗方法中为的剥离式清洗,亲水处理仪器,其大优势在于清洗后无废液,大特点是对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能---地处理,可实现整体和局部以及复杂结构的清洗
当硅片经清洗液处理后表面不沾水分子时称为疏水处理,反之表面吸附水膜时为亲水处理。纯净的硅片表面是疏水性的。从能量观点看,海南亲水处理,疏水性表面属低能表面,这时硅片表面张力r(sg)小于水分子表面张力r(sl)。亲水性表面则属高能表面,这时的硅表面张力r(sg)大于水分子表面张力r(sl)。由此可知,硅表面成为亲水性的基本条件为a=r(sg)- r(sl)>0
亲疏水处理的微观机理当硅片经清洗液处理后表面不沾水分子时称为疏水处理,反之表面吸附水膜时为亲水处理。纯净的硅片表面是疏水性的。从能量观点看,疏水性表面属低能表面,这时硅片表面张力小于水分子表面张力。亲水性表面则属高能表这时的硅表面张力大于水分子表面张力即硅片表面必须由低能转化为高能表面。从(2)式可以看出:完成上述转化的条件为或者使上升,或者下降。由于清洗液大多为无机碱、酸的水溶液,知这时几乎不变。因此,的方法是改变,使之增加。
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