1.磷酸基是亲水性的基团,常见的亲水性基团还有磺酸基,羧基,---等。
因为这些基团会增加物质的溶解度。比如:当给---环引入一个磺酸基形成---磺酸,疏水处理,则使得---不溶于水的性---为溶于水的---磺酸。所以说磺酸基是亲水基,同理磷酸基也是亲水基。
2.相反,所有的烃基都是疏水基团,也就是亲脂(油)基团,而且随着烃的含碳数越大(烃链越长)疏水性越强,常见疏水处理,亲脂性越强,在水中溶解度越小。
例如溶于水,这书因为中虽然含有疏水基,但是含碳量少且由于分子含有亲水基羧基,防水疏水处理,所以疏水基的比例不大,所以整个分子溶于水。但是硬脂酸(十八酸)则不溶于水,这是因为十八酸除了亲水的羧基外,含有十七个碳原子的很长的链的烷烃基团,导致疏水基的空间比例远远大于亲水基,所以整个硬脂酸分子不溶于水。
磷脂的另一头就是含有长链烷烃的疏水性基团。
等离子清洗设备的原理是在真空状态下,压力越来越小,分子间间距越来越大,分子间力越来越小,利用射频电源产生的高压交变电场将氧、、氢等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的离子,然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质,然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去,从而达到表面清洁活化的目的。是清洗方法中为的剥离式清洗,其大优势在于清洗后无废液,大特点是对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能---地处理,可实现整体和局部以及复杂结构的清洗
亲疏水处理的微观机理当硅片经清洗液处理后表面不沾水分子时称为疏水处理,反之表面吸附水膜时为亲水处理。纯净的硅片表面是疏水性的。从能量观点看,疏水性表面属低能表面,这时硅片表面张力小于水分子表面张力。亲水性表面则属高能表这时的硅表面张力大于水分子表面张力即硅片表面必须由低能转化为高能表面。从(2)式可以看出:完成上述转化的条件为或者使上升,或者下降。由于清洗液大多为无机碱、酸的水溶液,知这时几乎不变。因此,的方法是改变,使之增加。
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