当今社会已经进入了电子信息时代，涂层亲水处理，微处理芯片的发明改变了，pet 亲水处理，微电子、信息技术的水平已经被视为一个现代化水平高低的重要标志。硅经过提纯加工成单晶硅片，就是生产集成电路芯片的片基。亲水性和疏水性是硅片的重要物理性质，对硅片的后期加工起着重要的作用。当硅片本身的亲疏水性无法达到加工制造的要求时，就要对硅片进行亲疏水处理，使其满足加工制造的要求。
硅表面疏水性处理微观机理与亲水性处理机理相似，硅表面成为疏性的基本条件为b=a=r（sl）- r（sg）＞0
硅片表面必须由高能转化为低能表面。从上式可以看出:完成上述转化的条件为或者使 r（sg）下降，或者r（sl）上升。方法还是改变其表面结构，使 r（sg）减小。硅片经过特殊清洗液洗时，江西亲水处理，表面形成的自然氧化膜腐蚀掉，si几乎不被腐蚀。硅片外层的si儿乎以h键为终端结构，表面呈疏水性。
亲疏水处理改变材料表面接触角度，实现不同应用需求。表面亲水处理常被用在采血、样本自驱动、样本观测等液体流动类产品，使用时可起到辅助液体均匀流动的作用，从而提高产品检测准确率。疏水表面则多用于加样针、微流道芯片、微坑阵列产品等等。
1.接触角小可达8° ，大可达150°
2.聚合物、玻璃、金属、硅等多种基材均可处理
3.多种亲、疏水修饰涂层，满足不同应用场景中的表面处理需求
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