氧等离子体处理后的pdms,其表面引入了亲水性质的-oh基团,并代替了-ch基团,从而使pdms表面表现出极强的亲水性质。同样,由于硅基底通过处理,表面含有大量si-o键,在氧等离子体处理的过程中,si-o键被打断,涂层亲水处理,从而在表面形成大量的si悬挂键,通过吸收空气中-oh,形成了si-oh键。将处理后的pdms与硅表---贴合,亲水处理方法,两表面的si-oh之间发生如下反应:2si-ohsi-o-si+2h2o。在硅基底与pdms之间形成了牢固的si-o键结合,从而完成了二者间不可逆键合。
1.磷酸基是亲水性的基团,常见的亲水性基团还有磺酸基,实验亲水处理,羧基,---等。
因为这些基团会增加物质的溶解度。比如:当给---环引入一个磺酸基形成---磺酸,则使得---不溶于水的性---为溶于水的---磺酸。所以说磺酸基是亲水基,同理磷酸基也是亲水基。
2.相反,所有的烃基都是疏水基团,也就是亲脂(油)基团,而且随着烃的含碳数越大(烃链越长)疏水性越强,亲脂性越强,在水中溶解度越小。
例如溶于水,这书因为中虽然含有疏水基,但是含碳量少且由于分子含有亲水基羧基,所以疏水基的比例不大,所以整个分子溶于水。但是硬脂酸(十八酸)则不溶于水,这是因为十八酸除了亲水的羧基外,含有十七个碳原子的很长的链的烷烃基团,导致疏水基的空间比例远远大于亲水基,所以整个硬脂酸分子不溶于水。
磷脂的另一头就是含有长链烷烃的疏水性基团。
亲疏水处理的微观机理当硅片经清洗液处理后表面不沾水分子时称为疏水处理,反之表面吸附水膜时为亲水处理。纯净的硅片表面是疏水性的。从能量观点看,疏水性表面属低能表面,这时硅片表面张力小于水分子表面张力。亲水性表面则属高能表这时的硅表面张力大于水分子表面张力即硅片表面必须由低能转化为高能表面。从(2)式可以看出:完成上述转化的条件为或者使上升,安徽亲水处理,或者下降。由于清洗液大多为无机碱、酸的水溶液,知这时几乎不变。因此,的方法是改变,使之增加。
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